光刻膠的各種物性參數(shù)中，粘度值也是一個(gè)非常重要的參數(shù)，它對(duì)指導(dǎo)光刻膠的涂膠至為重要，但是我們?cè)陂喿x光刻膠的說(shuō)明文檔中往往會(huì)發(fā)現(xiàn)不同廠家使用不同的粘度單位， 比如cP，mPa·S，cst， 這對(duì)我們用戶(hù)來(lái)說(shuō)對(duì)比不同廠家的光刻膠的粘度性質(zhì)造成了困擾。

光刻膠是一種對(duì)光敏感的混合液體，是微電子技術(shù)中微細(xì)圖形加工的關(guān)鍵材料，屬于半導(dǎo)體八大核心材料之一，是繼硅片、電子特氣和光掩模之后的第四大半導(dǎo)體材料。

一、EVG101光刻膠測(cè)量簡(jiǎn)介

研發(fā)和小規(guī)模生產(chǎn)中的單晶圓光刻膠加工。

EVG101光刻膠處理系統(tǒng)在單室設(shè)計(jì)上可以滿(mǎn)足研發(fā)工作，與EVG的自動(dòng)化系統(tǒng)*兼容。EVG101支持zui大300 mm的晶圓，可配置為旋涂或噴涂和顯影。使用EVG先進(jìn)的OmniSpray涂層技術(shù)，在3D結(jié)構(gòu)晶圓上實(shí)現(xiàn)光刻膠或聚合物的共形層，用于互連技術(shù)。這確保了高粘度光致光刻膠或聚合物的低材料消耗，同時(shí)改善了均勻性并防止了擴(kuò)散。

二、EVG101光刻膠測(cè)量技術(shù)參數(shù)：

晶圓尺寸：高達(dá)300mm（12寸）

支持模式：旋涂/ OmniSpray®/生長(zhǎng)

晶圓支撐模式：?jiǎn)伪?雙EE/邊緣/翻動(dòng)

分配模式：

- 各種分配泵，可覆蓋高達(dá)52000cP的各種粘度

- 恒壓分配系統(tǒng)

- EBR / BSR /預(yù)濕/碗洗/液體灌注

三、特征：

晶圓尺寸可達(dá)300 mm

自動(dòng)旋涂或噴涂或使用手動(dòng)晶圓裝載/卸載進(jìn)行顯影

利用從研究到生產(chǎn)的快速簡(jiǎn)便的過(guò)程轉(zhuǎn)換

成熟的模塊化設(shè)計(jì)和標(biāo)準(zhǔn)化軟件

注射器分配系統(tǒng)，用于利用小的光刻膠體積，包括高粘度光刻膠

占地面積小，同時(shí)保持高水平的個(gè)人和過(guò)程安全性

多用戶(hù)概念（無(wú)限數(shù)量的用戶(hù)帳戶(hù)和程序，可分配的訪(fǎng)問(wèn)權(quán)限，不同的用戶(hù)界面語(yǔ)言）

選項(xiàng)：

- 采用OmniSpray®涂層技術(shù)均勻涂覆晶圓的高表面形貌

- 用于后續(xù)鍵合工藝的蠟和環(huán)氧樹(shù)脂涂層

- 旋涂玻璃（SOG）涂層